Горизонтальна пластина для човна з карбіду кремнію

Короткий опис:

Semicera надає вафельні човники, тримач, а також спеціальні носії для пластин для вертикальних/колонкових і горизонтальних конфігурацій.Удосконалена кераміка забезпечує чудову термостійкість і стійкість до плазми, одночасно зменшуючи частки та забруднюючі речовини.Напівпровідниковий карбід кремнію (SiC) також забезпечує високотемпературну міцність для пластин великої ємності.

Надішліть нам електронний лист

Деталі продукту

Теги товарів

Представляємо нашу найсучаснішу горизонтальну пластину з карбіду кремнію, ретельно розроблену для обробки пластин у напівпровідниковій промисловості.Виготовлена з найкращого карбіду кремнію, наша горизонтальна пластина для човна виділяється чудовими тепловими властивостями, хімічною стійкістю та механічною міцністю.Ідеально підходить для високотемпературних процесів, ця човнова плита розроблена для забезпечення виняткової продуктивності, забезпечуючи точність і ефективність у будь-якому використанні.

Ключові особливості

Виняткова довговічність:Виготовлений з карбіду кремнію високої чистоти, наш човнова плитасконструйований таким чином, щоб витримувати екстремальні температури до1600°C, що забезпечує неперевершену міцність і термін служби.

Рівномірний розподіл тепла:Теплопровідність карбіду кремнію забезпечує рівномірний розподіл тепла по пластині, що має вирішальне значення для підтримки послідовності процесу та досягнення високоякісного виробництва пластин.

Хімічна стійкість:Стійка до корозійних хімікатів і агресивних середовищ, наша пластина човна зберігає цілісність і продуктивність навіть у найвимогливіших додатках обробки напівпровідників.

Висока механічна міцність:Міцна конструкція нашогочовнова плитагарантує відмінну механічну міцність і зносостійкість, знижуючи ризик пошкодження і необхідність частої заміни.

Застосування:

нашГоризонтальна пластина для човна з карбіду кремніюідеально підходить для широкого діапазону високотемпературних процесів у виробництві напівпровідників, включаючи, але не обмежуючись ними, процеси дифузії, окислення, іонної імплантації та CVD.Його конструкція та матеріали гарантують, що він може підтримувати точні вимоги обробки пластин, що робить його важливим компонентом для ліній виробництва напівпровідників.

Про нас