Процес із покриттям SiC для графітових носіїв із покриттям SiC

Ми підтримуємо дуже точні допуски при застосуванніSiC покриття, використовуючи високоточну механічну обробку для забезпечення рівномірного профілю токоприймача.Ми також виробляємо матеріали з ідеальними властивостями електричного опору для використання в системах індуктивного нагріву.Усі готові компоненти мають сертифікат чистоти та відповідності розмірів.

Наша компанія надаєSiC покриттяобробляти послуги методом CVD на поверхні графіту, кераміки та інших матеріалів, так що спеціальні гази, що містять вуглець і кремній, реагують при високій температурі з отриманням високочистих молекул SiC, молекули, що осідають на поверхні покритих матеріалів, утворюючи захисний шар SIC.Утворений SIC міцно зв’язаний з графітовою основою, що надає графітовій основі особливі властивості, таким чином роблячи поверхню графіту компактною, безпористою, високотемпературною, корозійною та стійкою до окислення.

Процес CVD забезпечує надзвичайно високу чистоту та теоретичну щільністьSiC покриттябез пористості.Більше того, оскільки карбід кремнію дуже твердий, його можна відполірувати до дзеркальної поверхні.CVD покриття з карбіду кремнію (SiC).забезпечує низку переваг, включаючи поверхню надвисокої чистоти та надзвичайно зносостійкість.Оскільки вироби з покриттям мають високу продуктивність у високому вакуумі та високій температурі, вони ідеально підходять для застосування в напівпровідниковій промисловості та інших надчистих середовищах.Ми також пропонуємо продукти з піролітичним графітом (PG).