Хороша стабільність високотемпературної печі з карбіду кремнію

Хороша стабільність, високотемпературна труба для печі з карбіду кремнію Представлене зображення

Короткий опис:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. є провідним постачальником, що спеціалізується на витратних матеріалах для пластин і передових напівпровідників.Ми прагнемо надавати високоякісні, надійні та інноваційні продукти для виробництва напівпровідників,фотоелектрична промисловістьта інші суміжні галузі.

Наша лінійка продуктів включає графітові вироби з покриттям SiC/TaC і керамічні вироби, що включають різні матеріали, такі як карбід кремнію, нітрид кремнію, оксид алюмінію тощо.

Як надійний постачальник, ми розуміємо важливість витратних матеріалів у виробничому процесі, і ми прагнемо постачати продукцію, яка відповідає найвищим стандартам якості, щоб задовольнити потреби наших клієнтів.

Надішліть нам електронний лист

Деталі продукту

Теги товарів

Карбід кремнію - це новий тип кераміки з високою вартістю та відмінними властивостями матеріалу.Завдяки таким характеристикам, як висока міцність і твердість, стійкість до високих температур, висока теплопровідність і стійкість до хімічної корозії, карбід кремнію може витримувати майже всі хімічні середовища.Таким чином, SiC широко використовується в нафтовидобувній, хімічній, машинобудівній та повітряній промисловості, навіть атомна енергетика та військові мають свої особливі вимоги до SIC.Деяким звичайним застосуванням, яке ми можемо запропонувати, є ущільнювальні кільця для насоса, клапана та захисної броні тощо.

Ми можемо спроектувати та виготовити відповідно до ваших конкретних розмірів з гарною якістю та розумним часом доставки.

Ми можемо забезпечити стабільну та надійну роботукристалічні човни з карбіду кремнію,лопаті з карбіду кремнію,труби печі з карбіду кремніюдля виробництва напівпровідникових пластин від 4 до 6 дюймів.Чистота може досягати 99,9% без забруднення пластини.

Пічна труба з карбіду кремніюв основному використовується для: 4-6-дюймової кремнієвої пластини LTO = кремнезем, SIPOS = окси-полікремній, SI3N4 = нітрид кремнію, PSG = фосфорно-кремнієве скло, POLY = зростання полікремнієвої плівки.Це вихідний газ (або газифікація рідкого джерела), який активується тепловою енергією для створення твердої плівки на поверхні підкладки.Хімічне осадження з парової фази під низьким тиском здійснюється при низькому тиску, через низький тиск середня довжина вільного пробігу молекул газу велика, так що рівномірність вирощеної плівки хороша, а підкладку можна розмістити вертикально та кількість навантаження велике, особливо підходить для великих інтегральних схем, дискретних пристроїв, силової електроніки, оптоелектронних пристроїв та оптичного волокна та інших галузей промислового виробництва спеціального обладнання.

Застосування:

- Зносостійке поле: втулка, пластина, піскоструминна насадка, циклонна підкладка, шліфувальний ствол тощо...

- Високотемпературне поле: плита SiC, труба печі для гасіння, радіаційна труба, тигель, нагрівальний елемент, валик, балка, теплообмінник, труба холодного повітря, сопло для пальника, захисна трубка для термопари, човен з SiC, конструкція вагона печі, сеттер тощо.

-Військове Куленепробивне поле

- Напівпровідник з карбіду кремнію: пластинчастий човен з SiC, патрон, лопатка, касета, дифузійна трубка, пластинчаста вилка, присоскова пластина, напрямна тощо.

-Поле ущільнення з карбіду кремнію: усі види ущільнювальних кілець, підшипників, втулок тощо.

-Фотоелектричне поле: консольне весло, шліфувальний ствол, ролик із карбіду кремнію тощо.

- Поле літієвої батареї