додому
Про нас
Представлення компанії
Кваліфікація і честь
Область застосування
CVD покриття
Кераміка з карбіду кремнію (SiC).
вафельний
Глинозем (Al203) Кераміка
Нітрид кремнію (Si3N4) Кераміка
Кераміка Si3N4 на основі SiC
Цирконій (Zro2) Кераміка
Високоточний кварц
вафельний
Інші напівпровідникові матеріали
Прес-центр
Новини компанії
Новини галузі
FAQ
Зв'яжіться з нами
Рекомендовані
English
додому
CVD покриття
Частини росту монокристалів
Частини росту монокристалів
Консольне весло з карбіду кремнію
Пористий карбід танталу, матеріал гарячого поля для вирощування кристалів SiC
Покриття з карбіду танталу (TaC) з високою чистотою, високотемпературною стабільністю та високою хімічною стійкістю
Персоналізація продукту з карбіду танталу високої чистоти
Високоякісне покриття з карбіду танталу (TaC).
English
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Lao
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Telugu
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Kinyarwanda
Tatar
Oriya
Turkmen
Uyghur
